
折射率(n)
:光在空气中速度与介质中速度的比值,空气折射率≈1,玻璃≈1.52,膜材分高折射率(如 TiO₂/OS50)、低折射率(如 SiO₂)。
光学厚度
:物理厚度(d)× 折射率(n),是光谱设计的核心参数。
光的干涉
:膜层上下表面反射光相遇,干涉相消时反射光减弱、透过光增强,这就是 AR 膜的工作原理。
降低界面反射,可见光透过率提升;
减少杂散光、鬼影,提升光学系统成像清晰度;
适配车载、消费电子、精密仪器等多场景光学需求。
异常表现:光谱偏离目标曲线,450nm 峰值向短波移动、反射率偏高;
调整方案:减小 高折遮蔽(Mask),增加镀膜厚度。

异常表现:光谱偏离减小,450nm 峰值向长波移动、反射率偏低;
调整方案:增大高折遮蔽(Mask),减少镀膜厚度。
异常表现:光谱偏离减小,450nm 峰值向短波移动、反射率偏低;
调整方案:增大 SiO₂遮蔽(Mask),增加镀膜厚度。
异常表现:光谱偏离增大,450nm 峰值向长波移动、反射率偏高;
调整方案:减小 SiO₂遮蔽(Mask),减少镀膜厚度。
···起始真空度:≤3.0×10⁻³Pa;
···温度:150℃恒温 20min,降至 130℃镀膜(降10%左右);
···沉积速率:Tio2 3Å/s、SiO₂ 3~5Å/s;
···单片光谱突变:先排查测试片是否倾斜、表面有无脏污;再检查机台腔··体、膜料状态;
···批量光谱 NG:立即停止镀膜,检测设备问题点;
···水晶片失效:速率不稳导致外圈不均,立即切换备用水晶片,补镀前用软件模拟光谱;
···表面脏污 / 指纹:光控片需戴指套操作,距离强光灯 30cm 检查,避免人为污染影响光谱。
···存放:恒温恒湿箱保存,避免受潮氧化;
···检测:无残留物、无划痕、无指纹,不合格严禁上机;
···更换:定期更换,避免老化导致速率漂移。
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